近日，“第二届光谱技术及应用大会”在大连召开。大会由中国光学工程学会主办，中国光学工程学会光谱技术及应用专业委员会和大工联合承办，涵盖了光谱技术及应用的前沿领域，是行业内的一次高水平盛会。全国240余所高校、科研院所及企业的600余名专家学者齐聚一堂，参会人数创历史新高。

开幕式上，大会主席刘文清院士在致辞中介绍了光谱技术在环境领域的最新研究现状，并强调在“减污降碳”新目标下，国家对先进的光谱监测技术的迫切需求，发展光电子技术是新一代信息技术的重要基础。

我校副校长朱方伟对来自全国各地的专家学者的到来表示诚挚欢迎，对会议在大连召开表示热烈祝贺。同时，朱方伟感谢光学工程学会一直以来对大工的支持，并围绕学校发展历史、学科建设、人才培养以及学校吸引优秀人才的举措等方面作了简要介绍。

大会执行主席、中国光学工程学会理事及光谱技术及应用专业委员会副主任、我校物理学院丁洪斌教授就物质第四态物性表征及光谱应用的大会主旨作报告，介绍大工近年来在激光光谱等离子体诊断研究以及LIBS技术在托卡马克壁元素分析研究领域中取得的一系列创新成果。

会上，朱方伟、刘文清、物理学院院长王正汹及中国光学工程学会的领导和专家就物理学院的学科建设、科学研究及人才培养进行交流。

本届会议共举办16场专题研讨会，作13篇大会主旨报告，邀请国内包括清华大学、中国科学院等80余所机构的97位学术界、工业界领军专家出席作特邀报告。会议体现较强的交叉融合的特点，交流报告专业性强、信息量大、内容翔实有体系，充分展示国内外的最新技术动态和发展趋势，很好地助推光谱领域的信息互通，增强了行业凝聚力。